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EUVL芯片制造的工作原理
EUVL芯片制造的工作原理
　　　　该晶圆在原型设备上使用 极紫外光刻技术(EUVL)。查看更多 电脑硬件图片.　　照片由桑迪亚国家实验室提供近半个世纪以来，硅一直是世界技术繁荣的核心，但 微处理器 制造商几乎已经从中挤出了生命。目前用于制造微处理器的技术将在2005年左右开始达到极限。届时，芯片制造商将不得不寻求其他技术来填充更多。 晶体管 在硅上制造更强大的......
EUVL...
2023-02-02
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ASML下一代高精准度EUV光刻机售价将高达3亿美元
ASML下一代高精准度EUV光刻机售价将高达3亿美元
ASML（阿斯麦）下一代高精准度EUV（极紫外）光刻机的售价确实预计将达到一个相当高的水平，但具体售价可能会受到多种因素的影响，包括生产成本、市场需求、技术先进性以及市场竞争态势等。根据公开发布的信息，ASML的下一代高精准度EUV光刻机，如EXE: 5000型号，其数值孔径为0.55，可用于2nm节点以下芯片制造，如1.4nm、1nm等......
EUV光... 台积电 制程节点
2021-12-24
24
ASML下一代EUV光刻机将提前量产：售价3亿美元，Intel首发采用
ASML下一代EUV光刻机将提前量产：售价3亿美元，Intel首发采用
关于ASML下一代EUV光刻机将提前量产，售价为3亿美元，并由Intel首发采用的信息，可以归纳如下：一、ASML下一代EUV光刻机概述ASML（阿斯麦）作为全球光刻机技术的领军企业，其下一代EUV（极紫外）光刻机备受业界关注。这款光刻机采用了高数值孔径（High NA）技术，能够实现更高的光刻分辨率，进而推动芯片制造工艺的进一步升级。二......
EUV光... ASML 2D材料
2021-12-15
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不用EUV光刻机也能造5nm芯片？铠侠携手NDP与佳能力推NIL技术
不用EUV光刻机也能造5nm芯片？铠侠携手NDP与佳能力推NIL技术
是的，不用EUV光刻机也能造5nm芯片，这得益于铠侠携手NDP（大日本印刷株式会社）与佳能共同力推的NIL（纳米压印微影）技术。技术背景与优势EUV光刻机问题：在半导体制程技术进入5nm节点后，EUV光刻机成为了不可或缺的关键设备。然而，EUV光刻机造价高昂（每台价格超过1亿美元），且仅荷兰ASML一家能够生产供应，产能有限，导致芯片生产......
EUV光... 纳米压印... 手机应用...
2021-10-26
16
光刻机龙头 ASML 第三季度业绩激增近 70%，EUV 光刻业务出货量刷新纪录
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光刻机龙头ASML（阿斯麦）在第三季度的业绩确实实现了显著增长，并且EUV（极紫外光）光刻业务的出货量也刷新了纪录。以下是对该情况的详细分析：一、第三季度业绩激增近70%净利润增长：ASML公布的2021年第三季度业绩显示，其净利润达到了17亿欧元，与上一季度相比增长了67.6%，这是一个非常显著的增幅。净销售额增长：同时，该季度的净销售......
光刻机 逻辑节点 光刻系统
2021-10-22
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三星14纳米EUV DDR5 DRAM正式量产
三星14纳米EUV DDR5 DRAM正式量产
三星14纳米EUV DDR5 DRAM正式量产是三星在DRAM技术领域的一项重要里程碑。以下是关于这一事件的详细解答：一、量产背景技术基础：三星通过开拓关键的图案化创新技术，在近三年的时间里一直引领着DRAM市场。此次量产的14纳米EUV DDR5 DRAM，是三星在DRAM工艺上的又一次重大突破。市场定位：三星的14纳米EUV DDR5......
企业服务... 超级计算... EUV技...
2021-10-13
15
阿斯麦新一代 EUV 光刻机开始制造：造价 1.5 亿美元，公共汽车大小
阿斯麦新一代 EUV 光刻机开始制造：造价 1.5 亿美元，公共汽车大小
　　阿斯麦（ASML）是全球领先的半导体设备制造商，其EUV（极紫外光）光刻机在芯片制造中扮演着至关重要的角色。近日，阿斯麦宣布已经开始制造新一代的EUV光刻机，这款机器的造价高达1.5亿美元，体积相当于一辆公共汽车。　　这款新一代的EUV光刻机预计将大幅提升芯片制造的精度和效率，为未来的半导体技术发展提供强大的支持。尽管造价高昂，但对于......
新型晶体... 人工智能 云计算机...
2021-09-03
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三星可穿戴芯片 Exynos W920 正式发布：采用 5nm EUV 工艺，CPU 快 20%，GPU 快 1000%
三星可穿戴芯片 Exynos W920 正式发布：采用 5nm EUV 工艺，C...
三星可穿戴芯片Exynos W920的正式发布，标志着三星在可穿戴设备芯片领域的又一重要进步。以下是关于Exynos W920芯片的详细解析：一、发布背景与定位Exynos W920是三星为可穿戴设备量身定做的全新处理器，作为Exynos 9110芯片的继任者，它在性能、功耗和集成度等方面都有显著提升。这款芯片在发布后，首先被应用于Gal......
4G L... Cort... 全球导航...
2021-08-11
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ASML携手东京电子研发下一代EUV光刻机，预计2023年投入运行
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英飞凌科技股份公司（Infineon）推出的EiceDRIVER X3 Enhanced和X3 Compact栅极驱动器系列增强型隔离产品，为工业应用提供了更高水平的安全性和可靠性。以下是对这两个系列增强型隔离产品的详细介绍：一、产品概述EiceDRIVER X3 Enhanced系列该系列包括模拟（1ED34xx）和数字（1ED38xx......
EUV光... 工艺模块 高蚀刻电...
2021-06-15
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三星电子已决定在得克萨斯州奥斯汀建设 EUV 晶圆厂
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三星电子确实已决定在得克萨斯州奥斯汀建设EUV晶圆厂，以下是关于该项目的详细分析：一、项目背景与决策三星电子为了扩大其半导体生产能力和满足市场对先进制程技术的需求，决定在美国得克萨斯州奥斯汀建设一座采用极紫外光（EUV）技术的晶圆厂。这一决策是基于三星电子对全球半导体市场趋势的深入分析和对未来需求的预测。二、项目概况投资规模：该项目预计投......
三星电子 紫外光刻... 代工芯片
2021-05-20
10
ASML将赴韩国建EUV设备再制厂及培训中心，预计2025年建成
ASML将赴韩国建EUV设备再制厂及培训中心，预计2025年建成
ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography）将赴韩国建设EUV（Extreme Ultraviolet Lithography，极紫外光刻）设备再制厂及培训中心，预计于2025年建成。以下是关于此项目的详细解析：一、项目背景ASML是全球唯一的EUV设备生产商，其光刻设备被广泛应用于......
EUV设... 半导体设... EUV光...
2021-05-18
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ASML 将于今年推出透光率超 90% 的 EUV 防护膜，提高光刻机效率
ASML 将于今年推出透光率超 90% 的 EUV 防护膜，提高光刻机效率
ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography）确实曾计划在某一时期推出透光率超过90%的EUV（极紫外）防护膜，以提高光刻机的效率。以下是对此事的详细归纳：一、防护膜的特性与用途透光率：ASML计划推出的这款EUV防护膜透光率可达90.6%，相较于之前版本的防护膜（透光率约78%），这......
防护膜 EUV光... 光刻机
2021-05-18
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EUV光刻机持续大卖！ASML一季度净利大涨240%
EUV光刻机持续大卖！ASML一季度净利大涨240%
关于“EUV光刻机持续大卖！ASML一季度净利大涨240%”的说法，实际上并不完全准确。根据我获取的信息，ASML（阿斯麦）在2024年第一季度的净利润并未实现240%的大涨，但其EUV光刻机的销售情况确实表现强劲。以下是对ASML一季度财务状况及EUV光刻机销售情况的详细分析：一、ASML一季度财务状况净销售额：ASML在2024年第一......
光刻机 ASML EUV设...
2021-04-25
17
英特尔CEO帕特·基辛格宣布“IDM 2.0”战略，实现制造、创新和产品的全面领先
英特尔CEO帕特·基辛格宣布“IDM 2.0”战略，实现制造、创新和产品的全面领...
英特尔CEO帕特·基辛格宣布的“IDM 2.0”战略，是英特尔IDM模式的一项重大革新，旨在实现制造、创新和产品的全面领先。以下是对该战略的详细解析：一、战略背景与目标在竞争日益激烈的半导体行业中，英特尔面临着来自台积电、三星等企业的强劲挑战。为了保持领先地位，英特尔需要不断创新并优化其制造、设计和交付流程。因此，帕特·基辛格提出了“ID......
数据中心 IDM EUV
2021-03-26
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SK海力士与ASML签合同：斥资4.8万亿韩元采购EUV光刻机
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SK海力士与ASML签订的采购EUV光刻机的合同详情如下：一、合同概述SK海力士与ASML公司签订了一项为期5年的采购合同，斥资4.8万亿韩元（约合43.4亿美元）购买EUV光刻机。这笔交易旨在确保SK海力士在芯片制造过程中能够获得足够的EUV光刻机，以实现下一代工艺芯片的量产目标。二、合同目的SK海力士在一份监管文件中称，这笔交易是为了......
EUV光... 存储芯片 逻辑芯片
2021-02-26
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SK 海力士 M16 新厂竣工，将首次使用 EUV 光刻机生产
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SK海力士M16新厂的竣工标志着该公司在半导体生产领域迈出了重要的一步，特别是其首次引入EUV光刻机进行生产，更是引发了业界的广泛关注。以下是对SK海力士M16新厂竣工及EUV光刻机使用的详细解析：一、M16新厂概况竣工时间：2021年2月1日，SK海力士在韩国京畿道利川总部举行了M16新厂的竣工仪式。建设历程：2018年7月：宣布建设M......
光刻机
2021-02-03
17
ASML公布2020年报：营收140亿欧元，31台EUV光刻
ASML公布2020年报：营收140亿欧元，31台EUV光刻
ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography ）在2020年取得了显著的业绩成果，其公布的2020年年报详细展示了公司的财务状况和业务发展情况。以下是对ASML 2020年年报中关键信息的归纳和分析：一、总体财务状况营收：ASML在2020年实现了140亿欧元的营收。这一数字显示了公司......
EUV光...
2021-01-25
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ASML已完成第100台EUV光刻机出货，2021年产能可达45～50台
ASML已完成第100台EUV光刻机出货，2021年产能可达45～50台
ASML（高级半导体材料光刻公司）已完成第100台EUV（极紫外）光刻机的出货，并且在2021年的产能预计可达到45至50台。以下是对这一事件的详细分析：一、ASML EUV光刻机出货情况ASML在某一时间点（具体日期可能因不同报道而略有差异，但均指向相近的时间段）完成了第100台EUV光刻机的出货。这一里程碑式的成就标志着EUV光刻机技......
ASML...
2021-01-04
23
曝高通正开发新款中端芯片：5nm EUV 工艺，1＋3＋4 架构
曝高通正开发新款中端芯片：5nm EUV 工艺，1＋3＋4 架构
关于高通正在开发的新款中端芯片，其采用5nm EUV工艺和1+3+4架构的信息，可以从以下几个方面进行归纳：一、芯片基本信息制造商：高通（Qualcomm）工艺制程：5nm EUV架构：1+3+4二、工艺制程详解5nm EUV工艺：5nm制程是半导体工艺的一个重要节点，相比之前的制程，它在晶体管密度、功耗和性能上都有所提升。EUV（极紫外......
中端芯片 高通 5nm ...
2020-12-31
11
商务部发声：希望荷方在华为5G、EUV光刻机等问题上秉持公平立场
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商务部确实曾发声，希望荷方在华为5G、EUV光刻机等问题上秉持公平立场。以下是对这一事件的详细分析：一、事件背景时间：该事件发生在2020年12月16日之后，商务部副部长俞建华与荷兰外交部外贸与发展合作大臣卡格共同主持召开中荷经贸混委会第17次会议期间。参与方：商务部与荷兰政府相关部门。议题：中荷经贸合作，特别是华为5G和EUV光刻机等问......
EUV光...
2020-12-22
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品牌:ITT CANNON
类别：集成电路
095-3171
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品牌:DIALIGHT
类别：LED照明
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