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光刻机
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光刻机和刻蚀机哪个更重要
光刻机和刻蚀机哪个更重要
光刻机和刻蚀机在芯片制造过程中都扮演着非常重要的角色，它们各自承担着不同的任务，且互为补充。光刻机主要用于将掩膜板上的图案转移到硅片上，通过优化光刻机的光学系统和控制算法，可以实现更高的分辨率和更精准的图案转移。光刻机的作用是将设计好的芯片图案投射到光敏感的化学物质上，形成所需的图案结构，从而制作出芯片中的电路。而刻蚀机则主要用于去除芯片......
光刻机
2024-05-14
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中国14纳米芯片光刻机
中国14纳米芯片光刻机
中国在14纳米芯片光刻机领域已经取得了一定的进展。据报道，哈工大实验团队在国产DUV光刻机的研发领域取得了重大突破，成功完成了核心部件的自行建造，使得14纳米的光刻机有望在近期内进行量产。这一成果体现了中国在芯片制造技术研发方面的实力和潜力。光刻机是芯片制造过程中的关键设备之一，其精度直接影响到芯片制造的工艺水平和芯片性能。因此，拥有自主......
14纳米...
2024-02-23
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上海微电子28nm光刻机
上海微电子28nm光刻机
上海微电子已成功研制出28nm光刻机，这是国内唯一一家掌握光刻机技术的企业所取得的重大突破。光刻机是制造芯片的核心设备之一，其精度和稳定性对于芯片制造的质量和效率具有决定性的影响。28nm光刻机的研制成功，意味着中国芯片制造行业在核心技术方面取得了重要进展，也为中国芯片产业的自主发展提供了有力支撑。光刻机是一种利用光学原理进行高精度微纳加......
上海微电... 28nm...
2024-02-23
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ASML下一代高精准度EUV光刻机售价将高达3亿美元
ASML下一代高精准度EUV光刻机售价将高达3亿美元
ASML（阿斯麦）下一代高精准度EUV（极紫外）光刻机的售价确实预计将达到一个相当高的水平，但具体售价可能会受到多种因素的影响，包括生产成本、市场需求、技术先进性以及市场竞争态势等。根据公开发布的信息，ASML的下一代高精准度EUV光刻机，如EXE: 5000型号，其数值孔径为0.55，可用于2nm节点以下芯片制造，如1.4nm、1nm等......
EUV光... 台积电 制程节点
2021-12-24
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ASML下一代EUV光刻机将提前量产：售价3亿美元，Intel首发采用
ASML下一代EUV光刻机将提前量产：售价3亿美元，Intel首发采用
关于ASML下一代EUV光刻机将提前量产，售价为3亿美元，并由Intel首发采用的信息，可以归纳如下：一、ASML下一代EUV光刻机概述ASML（阿斯麦）作为全球光刻机技术的领军企业，其下一代EUV（极紫外）光刻机备受业界关注。这款光刻机采用了高数值孔径（High NA）技术，能够实现更高的光刻分辨率，进而推动芯片制造工艺的进一步升级。二......
EUV光... ASML 2D材料
2021-12-15
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英诺赛科成功导入ASML光刻机，进一步提升产能和产线良率
英诺赛科成功导入ASML光刻机，进一步提升产能和产线良率
英诺赛科（珠海）科技有限公司成功导入ASML光刻机，这一举措对其进一步提升产能和产线良率产生了显著影响。以下是关于此事件的详细分析：一、事件背景时间：2021年12月8日，英诺赛科为ASML光刻机成功导入8英寸硅基氮化镓量产线举办了庆典。合作方：英诺赛科与全球芯片制造设备领导厂商ASML达成合作，引入了其先进的光刻机设备。二、ASML光刻......
硅基氮化... ASML... 碳化硅(...
2021-12-10
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国产“28nm光刻机”又跳票？到底卡在了哪里？
国产“28nm光刻机”又跳票？到底卡在了哪里？
关于国产“28nm光刻机”是否又跳票以及具体卡在了哪里的问题，可以从以下几个方面进行分析：一、国产28nm光刻机的进展与挑战1. 进展概述国产光刻机技术一直在不断发展和进步。近年来，国内企业如上海微电子等在光刻机领域取得了显著成就，已经能够量产90nm分辨率的ArF光刻机，并有望在28nm分辨率的光刻机上取得突破。然而，关于国产“28nm......
28nm... 上海微电...
2021-12-07
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国内光刻机设备现状
国内光刻机设备现状
国内光刻机设备现状可以从技术水平、市场份额、企业竞争力以及面临的挑战等方面来进行分析。一、技术水平国内光刻机技术在近年来取得了显著进步，但与国际领先水平相比仍存在一定差距。目前，国内光刻机的技术水平主要集中在90nm至180nm的精度范围内，而世界领先水平已经达到了5nm甚至3nm。不过，值得注意的是，国内企业在后道光刻机领域已经取得了重......
国内光刻... 光刻机设...
2021-12-07
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国产光刻机背后的希望
国产光刻机背后的希望
国产光刻机背后的希望主要体现在以下几个方面：一、政策支持与资金投入政策支持：中国政府高度重视半导体产业的发展，包括光刻机在内的关键设备研发得到了国家政策的大力支持。政府通过制定一系列政策措施，如税收优惠、资金支持、人才引进等，为国产光刻机的研发提供了有力保障。资金投入：随着国家对半导体产业的投入不断增加，国产光刻机的研发资金也得到了显著提......
国产光刻... EUV光...
2021-12-07
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“02专项“为何非要选择28纳米光刻机这么一个数字？
“02专项“为何非要选择28纳米光刻机这么一个数字？
“02专项”选择28纳米光刻机作为目标，并非随意之举，而是基于多方面的考量和技术限制。以下是对此选择的详细分析：一、技术可行性最佳分辨率：28纳米是193nm ArF激光干法光刻结合double patterning技术所能达到的最佳分辨率。这种技术组合在现有条件下具有相对较高的可行性。单次光刻的分辨率受限于光源波长、透镜组数值孔径以及曝......
28nm... 28纳米...
2021-12-07
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28nm光刻机卡住“02专项”——对于督工部分观点的批判（睡前消息353期）
28nm光刻机卡住“02专项”——对于督工部分观点的批判（睡前消息353期）
关于“28nm光刻机卡住‘02专项’——对于督工部分观点的批判（睡前消息353期）”这一话题，首先需要明确的是，督工（即马督工）的观点可能基于其个人理解和对当前技术、市场及政策环境的分析，但并不一定完全准确或全面。以下是对督工部分观点可能存在的批判性思考：一、对技术难度的理解督工观点： 可能认为28nm光刻机的研发难度过大，导致无法按期通......
28nm...
2021-12-07
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不用EUV光刻机也能造5nm芯片？铠侠携手NDP与佳能力推NIL技术
不用EUV光刻机也能造5nm芯片？铠侠携手NDP与佳能力推NIL技术
是的，不用EUV光刻机也能造5nm芯片，这得益于铠侠携手NDP（大日本印刷株式会社）与佳能共同力推的NIL（纳米压印微影）技术。技术背景与优势EUV光刻机问题：在半导体制程技术进入5nm节点后，EUV光刻机成为了不可或缺的关键设备。然而，EUV光刻机造价高昂（每台价格超过1亿美元），且仅荷兰ASML一家能够生产供应，产能有限，导致芯片生产......
EUV光... 纳米压印... 手机应用...
2021-10-26
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光刻机龙头 ASML 第三季度业绩激增近 70%，EUV 光刻业务出货量刷新纪录
光刻机龙头 ASML 第三季度业绩激增近 70%，EUV 光刻业务出货量刷新纪录...
光刻机龙头ASML（阿斯麦）在第三季度的业绩确实实现了显著增长，并且EUV（极紫外光）光刻业务的出货量也刷新了纪录。以下是对该情况的详细分析：一、第三季度业绩激增近70%净利润增长：ASML公布的2021年第三季度业绩显示，其净利润达到了17亿欧元，与上一季度相比增长了67.6%，这是一个非常显著的增幅。净销售额增长：同时，该季度的净销售......
光刻机 逻辑节点 光刻系统
2021-10-22
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报告：半导体设备国产化正加速，今年预计将建成 8 座高产能晶圆厂
报告：半导体设备国产化正加速，今年预计将建成 8 座高产能晶圆厂
关于“半导体设备国产化正加速，今年预计将建成8座高产能晶圆厂”的报告，我们可以从以下几个方面进行详细分析：一、半导体设备国产化加速的背景全球趋势：近年来，全球半导体产业持续向中国大陆转移，这为中国半导体设备国产化提供了良好的外部环境。随着技术的不断进步和市场的不断扩大，国内半导体设备厂商在各自优势环节逐渐取得突破。政策支持：中国政府高度重......
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2021-09-26
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半导体分析机构：阿斯麦 ASML 是英特尔追上台积电的“救世主”
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半导体分析机构认为阿斯麦（ASML）对于英特尔追上台积电具有关键作用，这一观点主要基于以下几个方面：一、技术领先性的重要性1. EUV技术的领先优势：台积电在EUV（极紫外光刻）工具数量和经验方面遥遥领先于英特尔。EUV技术是先进技术节点的关键，对于提升芯片制造精度和性能至关重要。当年ASML在EUV技术拓展上遇到困难时，苹果通过向台积电......
光刻机 三星 晶体管
2021-09-14
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阿斯麦新一代 EUV 光刻机开始制造：造价 1.5 亿美元，公共汽车大小
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　　阿斯麦（ASML）是全球领先的半导体设备制造商，其EUV（极紫外光）光刻机在芯片制造中扮演着至关重要的角色。近日，阿斯麦宣布已经开始制造新一代的EUV光刻机，这款机器的造价高达1.5亿美元，体积相当于一辆公共汽车。　　这款新一代的EUV光刻机预计将大幅提升芯片制造的精度和效率，为未来的半导体技术发展提供强大的支持。尽管造价高昂，但对于......
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2021-09-03
14
中芯国际回应是否有自己的光刻机：从外部采购而来
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中芯国际在回应是否有自己的光刻机时明确表示，其光刻机是从外部采购而来的。以下是对此问题的详细解析：一、中芯国际的光刻机采购情况采购来源：中芯国际的光刻机主要来自全球领先的光刻机制造商，如荷兰的ASML（阿斯麦）公司。ASML是全球光刻机技术最先进的厂商，其生产的EUV光刻机是目前唯一能够用于生产制造7nm以下芯片的设备。然而，由于技术限制......
光刻机 中芯国际 集成电路...
2021-08-16
81
美光科技将引入极紫外光刻机，2024 年部署到部分工艺节点
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美光科技将引入极紫外光刻机，并计划在2024年部署到部分工艺节点的消息，是基于其长期技术发展规划和市场需求做出的重要决策。以下是对此消息的详细解读：一、背景与计划技术背景：极紫外光刻机（EUV光刻机）是半导体制造领域的一项先进技术，它以波长为10~14纳米的极紫外光作为光源，可用于制造14纳米及以下的先进制程芯片。这项技术对于提高芯片的性......
外光刻机 DRAM 存储芯片
2021-07-05
26
ASML携手东京电子研发下一代EUV光刻机，预计2023年投入运行
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英飞凌科技股份公司（Infineon）推出的EiceDRIVER X3 Enhanced和X3 Compact栅极驱动器系列增强型隔离产品，为工业应用提供了更高水平的安全性和可靠性。以下是对这两个系列增强型隔离产品的详细介绍：一、产品概述EiceDRIVER X3 Enhanced系列该系列包括模拟（1ED34xx）和数字（1ED38xx......
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2021-06-15
87
上海微电子年底前将推出28nm光刻机？
上海微电子年底前将推出28nm光刻机？
关于上海微电子年底前是否将推出28nm光刻机的问题，虽然目前没有直接的信息表明该设备确切的推出时间，但可以从相关报道和公开信息中做一些合理的推断。首先，上海微电子装备公司（SMEE）在光刻机研发方面有着一定的实力和积累。有报道指出，上海微电子正在全力以赴开发国产28纳米光刻机，并计划在未来实现量产。这表明上海微电子在28nm光刻机领域有明......
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2021-06-11
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