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DUV光刻机
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光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

即将100%国产的28nm、14nm芯片
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　　2020年8月19日央视财经援引国务院发布的相关数据显示，中国芯片自给率要在2025年达到70%，而2019年我国芯片自给率仅为30%左右。　　　　综合Gartner等知名机构的观点，90%的芯片需求，都可以通过14nm、28nm来满足。28nm和14nm是相对成熟的工艺，非常有利于在相应时间范围内提高芯片的自给率。　　具备28nm芯......
28nm 14nm DUV光...
2021-12-07
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上海微电子年底前将推出28nm光刻机？
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　　众所周知，目前国内在芯片制造领域仍处于落后地位，虽然中芯国际等少数晶圆代工厂已经能够量产28/14nm工艺，但是其制造产线上的半导体设备仍严重依赖于美国。　　去年5月，华为在被美国升级制裁之后，台积电、中芯国际等晶圆代工厂无法继续利用美国半导体设备及技术为华为海思代工芯片，使得华为自研的海思芯片出现了断供。与此同时，中芯国际在去年年底......
5G设备... 激光系统 DUV光...
2021-06-11
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美议员要求升级对中芯国际制裁，欲阻止其获得DUV光刻机等半导体设备
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　　在美国政府松绑对中芯国际成熟制程的采购禁令，部分美国设备供应商成功获得许可，开始恢复对中芯国际的供应之后，美国当地时间3月19日，共和党两名重量级议员要求拜登政府升级对中芯国际制裁，以确保中芯国际无法获取关键的半导体制造设备。　　据《美国之音》报导，美国共和党众议员麦考尔（Michael McCaul）和鲁比欧（Marco Rubi......
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2021-03-24
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