原标题：上海微电子年底前将推出28nm光刻机？

关于上海微电子年底前是否将推出28nm光刻机的问题，虽然目前没有直接的信息表明该设备确切的推出时间，但可以从相关报道和公开信息中做一些合理的推断。

首先，上海微电子装备公司（SMEE）在光刻机研发方面有着一定的实力和积累。有报道指出，上海微电子正在全力以赴开发国产28纳米光刻机，并计划在未来实现量产。这表明上海微电子在28nm光刻机领域有明确的研发目标和计划。

其次，从时间节点来看，虽然目前没有确切的年底前推出的消息，但考虑到光刻机的研发周期和测试流程，如果上海微电子已经在这一领域取得了显著的进展，那么年底前推出也不是没有可能。然而，这也需要考虑到技术研发的复杂性和不确定性，因此具体推出时间还需以官方发布的信息为准。

另外，值得注意的是，光刻机的研发和生产是一个高度复杂和精密的过程，需要投入大量的资金和技术力量。同时，由于光刻机在半导体产业中的重要地位，其研发和生产也受到了广泛的关注和竞争。因此，上海微电子在推出28nm光刻机时可能会面临多方面的挑战和竞争。

综上所述，虽然目前没有确切的信息表明上海微电子年底前将推出28nm光刻机，但根据相关报道和公开信息可以推断，上海微电子在这一领域有着明确的研发目标和计划，并且有可能在未来实现量产。然而，具体推出时间还需以官方发布的信息为准。

此外，光刻机的推出不仅标志着技术进步，也将对半导体产业的发展产生重要影响。因此，对于这一领域的关注和期待是合理的，但也需要保持理性和客观的态度，等待官方发布的确切信息。