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光刻机设备
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光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

国内光刻机设备现状
国内光刻机设备现状
国内光刻机设备现状可以从技术水平、市场份额、企业竞争力以及面临的挑战等方面来进行分析。一、技术水平国内光刻机技术在近年来取得了显著进步，但与国际领先水平相比仍存在一定差距。目前，国内光刻机的技术水平主要集中在90nm至180nm的精度范围内，而世界领先水平已经达到了5nm甚至3nm。不过，值得注意的是，国内企业在后道光刻机领域已经取得了重......
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