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国内光刻机
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对于光刻机的概念，还是引用百度百科的文字吧。“光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

国内光刻机设备现状
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　　近期，光刻机的相关消息铺天盖地，在国际贸易摩擦反复无常的环境背景下，业界对于仍处处受制于他国的光刻机设备格外关注。　　据了解，光刻机是通过光学系统将光掩模版上设计好的集成电路图形印制到硅衬底的感光材料上，实现图形转移，根据应用工序不同，光刻机可以用于集成电路的制造环节和封装环节，其中用于封装环节的光刻机在技术门槛上低于用于制造环节的光......
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