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制程节点
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　集成电路工艺（integrated circuit technique） 　　是把电路所需要的晶体管、二极管、电阻器和电容器等元件用一定工艺方式制作在一小块硅片、玻璃或陶瓷衬底上，再用适当的工艺进行互连，然后封装在一个管壳内，使整个电路的体积大大缩小，引出线和焊接点的数目也大为减少。

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　　对于半导体制造来说，光刻机是极为关键的设备。数据显示，在先进制程产线当中，光刻机的成本占比高达22%，同时也在所有制造工序所消耗的时间当中占据了20%。而全球光刻机大厂ASML独家供应的EUV光刻机，则是制造7nm以下先进制程的必备设备。　　目前 ASML 已经推出第三代 EUV光刻机，分别是 TWINSCAN NXE: 3400B、......
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2021-12-24
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在一场将于12月举行的技术研讨会上，晶圆代工大厂台积电(TSMC)将与竞争对手Globalfoundries、三星(Samsung)结成的夥伴联盟，公开比较7奈米制程技术的细节;后三家厂商的制程技术将会采用极紫外光微影(EUV)已达成令人印象深刻的进展，不过因为EUV量产方面遭遇的挑战，台积电看来会是率先让7奈米制程上市的半导体厂商。......
7nm 台积电
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