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28nm光刻机
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上海微电子28nm光刻机
上海微电子28nm光刻机
上海微电子已成功研制出28nm光刻机，这是国内唯一一家掌握光刻机技术的企业所取得的重大突破。光刻机是制造芯片的核心设备之一，其精度和稳定性对于芯片制造的质量和效率具有决定性的影响。28nm光刻机的研制成功，意味着中国芯片制造行业在核心技术方面取得了重要进展，也为中国芯片产业的自主发展提供了有力支撑。光刻机是一种利用光学原理进行高精度微纳加......
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2024-02-23
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国产“28nm光刻机”又跳票？到底卡在了哪里？
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关于国产“28nm光刻机”是否又跳票以及具体卡在了哪里的问题，可以从以下几个方面进行分析：一、国产28nm光刻机的进展与挑战1. 进展概述国产光刻机技术一直在不断发展和进步。近年来，国内企业如上海微电子等在光刻机领域取得了显著成就，已经能够量产90nm分辨率的ArF光刻机，并有望在28nm分辨率的光刻机上取得突破。然而，关于国产“28nm......
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“02专项“为何非要选择28纳米光刻机这么一个数字？
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“02专项”选择28纳米光刻机作为目标，并非随意之举，而是基于多方面的考量和技术限制。以下是对此选择的详细分析：一、技术可行性最佳分辨率：28纳米是193nm ArF激光干法光刻结合double patterning技术所能达到的最佳分辨率。这种技术组合在现有条件下具有相对较高的可行性。单次光刻的分辨率受限于光源波长、透镜组数值孔径以及曝......
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2021-12-07
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28nm光刻机卡住“02专项”——对于督工部分观点的批判（睡前消息353期）
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关于“28nm光刻机卡住‘02专项’——对于督工部分观点的批判（睡前消息353期）”这一话题，首先需要明确的是，督工（即马督工）的观点可能基于其个人理解和对当前技术、市场及政策环境的分析，但并不一定完全准确或全面。以下是对督工部分观点可能存在的批判性思考：一、对技术难度的理解督工观点： 可能认为28nm光刻机的研发难度过大，导致无法按期通......
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2021-12-07
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上海微电子年底前将推出28nm光刻机？
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关于上海微电子年底前是否将推出28nm光刻机的问题，虽然目前没有直接的信息表明该设备确切的推出时间，但可以从相关报道和公开信息中做一些合理的推断。首先，上海微电子装备公司（SMEE）在光刻机研发方面有着一定的实力和积累。有报道指出，上海微电子正在全力以赴开发国产28纳米光刻机，并计划在未来实现量产。这表明上海微电子在28nm光刻机领域有明......
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