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KrF光刻
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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

净利增316%，KrF光刻胶取得订单！这家公司再获突破
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　　8月20日，上海新阳发布了上半年财报，报告期内，实现营业收入为4.37亿元，同比增长45.78%；归属于上市公司股东的净利润为1.08亿元，同比增长316.82%。　　上海新阳表示，业绩增长主要是公司晶圆制造用电镀液及清洗液等超纯化学产品营业收入大幅增长所致。　　据公告，上海新阳自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证，并成功取得订单......
ArF干... 保护硅 光刻
2021-08-23
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南大光电自研ArF光刻胶再获突破，已通过逻辑芯片企业55nm产品认证
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　　在半导体制造上，国内厂商需要突破的不只是光刻机等核心设备，光刻胶也是重要的一环。　　5月31日晚间，南大光电发布公告，控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破，表明公司光刻胶产品已具备55nm平台后......
逻辑芯片 光刻机 KrF光...
2021-06-03
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英诺赛科与ASML签署合作协议，将批量购买高产能i－line和KrF光刻机
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　　继去年9月，全球最大氮化镓工厂——英诺赛科苏州第三代半导体基地开始由厂房建设阶段进入量产准备阶段之后，2021年1月21日，英诺赛科科技有限公司和ASML公司达成批量购买高产能i-line和KrF光刻机的协议，用于制造先进的硅基氮化镓功率器件。　　全球领先的硅基氮化镓集成器件制造商英诺赛科科技有限公司和光刻机制造厂商ASML近期达成批......
光刻机
2021-01-25
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