原标题：SRII重磅亮相CICD 2021，以先进ALD技术赋能第三代半导体产业

SRII（青岛四方思锐智能技术有限公司）在CICD 2021（2021年中国集成电路制造年会）上的亮相，以先进ALD（原子层沉积）技术赋能第三代半导体产业，展现了其在半导体制造领域的创新实力和市场前景。以下是对该事件的详细分析：

一、SRII的亮相背景

随着新能源汽车、数据中心、储能、手机快充等应用的兴起，第三代半导体材料如SiC（碳化硅）和GaN（氮化镓）因其高耐压等级、高开关频率和高性能等特点，逐渐崭露头角并获得业界的广泛关注。这些新型功率器件在生产工艺不断优化和成本持续降低的情况下，开始投入批量应用，并迎来了关键的产能爬坡阶段。SRII作为业界领先的ALD设备制造商和服务商，通过亮相CICD 2021，向业界展示了其在第三代半导体产业中的技术实力和市场布局。

二、SRII的技术实力

SRII在CICD 2021上展示了其先进的ALD技术，该技术在功率半导体制造环节中具有创新应用。ALD技术属于CVD（化学气相沉积）的一种，是当下最先进的薄膜沉积技术之一。它能够以单原子膜（0.1nm）形式沉积在基底表面，并在整体器件的镀膜控制上达到很高的精确度。这种技术对于SiC、GaN等功率与化合物材料尤为重要，因为这些材料的器件3D结构越来越复杂，对薄膜的要求也越来越高。

三、SRII的市场布局

1. 产品布局：SRII推出了量产型ALD沉积设备——Transform™系列，并成功交付了最新的Beneq Transform™ Lite设备给中国市场的第三代半导体龙头客户，帮助其加速GaN产线的扩建。这些设备在25片8寸晶圆的batch工艺条件下，基于完全真实的cycle time和GPC、WiW、WtW等指标，完全满足spec要求。

2. 全球化与本地化并行：SRII自2019年起，在欧洲、美国、日本、中国大陆和中国台湾地区等全球知名半导体客户量产线上投入使用，有着充分验证的工艺稳定性和设备稳定性。同时，SRII也积极推行本地化布局，通过在中国市场扎根、培养本地国际化创新型团队，加强与不同区域、不同领域、不同机构的产业生态合作。

3. 联合研发：SRII表示非常希望与国内的机构或行业客户开展联合研发工作，通过采用基于ALD技术的创新应用，实现提升器件性能以及易于量产的目的。

四、市场前景

根据Yole Développement的最新调研报告，预计2026年全球GaN功率器件的市场规模将增长至11亿美元，年均复合增长率达到70%。其中，手机快充等消费市场是未来2-3年的主要驱动力，新能源汽车OBC充电器、工业领域逆变器、数据中心高效电源等应用则紧随其后。这为SRII等ALD设备制造商提供了广阔的市场空间和发展机遇。

综上所述，SRII在CICD 2021上的亮相不仅展示了其在第三代半导体产业中的技术实力和市场布局，也预示着其在未来半导体制造领域中的巨大潜力和广阔前景。