原标题：思锐智能携旗下Beneq品牌亮相CIOE2021，探索从微观到宏观层面的ALD光学应用创新

思锐智能携旗下Beneq品牌亮相CIOE2021（即第23届中国国际光电博览会），并在此平台上深入探索了从微观到宏观层面的原子层沉积（ALD）光学应用创新。以下是对该事件的详细阐述：

一、事件背景

• 参展方：青岛四方思锐智能技术有限公司（简称思锐智能），携其全资收购的芬兰Beneq品牌共同参展。

• 展会名称：第23届中国国际光电博览会（CIOE2021）。

• 展会时间：具体年份为2021年（具体日期未提及，但根据标题可推断）。

二、参展亮点

1. ALD光学应用创新：

• 思锐智能在展会上分享了ALD设备的主流产品以及在光学领域的众多创新解决方案。ALD技术以其原子级精度的特性，在纳米结构的微观层面和任意形态光学器件的宏观层面均展现出卓越的应用潜力。

• ALD技术能够调整光学材料的特性，满足高精度、高保形性、高致密性和高均匀性的要求，特别是在三维结构部件产品上沉积高保形、高致密、高均匀性的光学薄膜方面具有独特优势。

2. 产品展示：

• 思锐智能展示了包括P400A、P800、P1500和C2R在内的多款ALD设备。这些设备克服了传统ALD设备沉积速率慢、不兼容大尺寸产品、难以大规模生产的局限，满足了现代光学规模化、高要求的镀膜产品的生产需要。

• 其中，P系列设备支持定制反应腔的配置选项，适用于各种基底，且反应腔易于更换，减少了因维护造成的停机时间。C2R系列则是将空间ALD技术与等离子技术结合的创新产品，实现了超高速的镀膜能力。

1. 技术合作与生态拓展：

• 思锐智能与浙江大学光学与光电子薄膜研究所签订了战略合作协议，共建联合实验室，用于技术开发和应用创新。

• 公司还积极拓展生态合作版图，与国内外多家知名企业达成合作，共同推动ALD技术在光学及其他领域的应用。

三、市场反响与应用前景

• 思锐智能的ALD设备和技术在展会上引起了广泛关注，其出色的膜层厚度均匀性、保形性和高性价比等特点赢得了行业人士的认可。

• 展望未来，随着光电系统微缩化、基底材料多元化以及各类行业应用的创新迭代，ALD技术将在光学镀膜领域发挥更加重要的作用。思锐智能将继续以先进的ALD技术为客户提供一站式解决方案，满足从研发、中试线到工业化量产的全方位镀膜需求。

综上所述，思锐智能携Beneq品牌亮相CIOE2021不仅展示了其在ALD光学应用领域的创新成果和技术实力，还进一步拓展了市场合作与生态版图，为未来的光学镀膜产业发展奠定了坚实基础。