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半导体沉积设备
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本实用新型公开了一种半导体沉积设备,包括沉积腔盖,所述沉积腔盖底部设有若干喷气组件,所述喷气组件包括喷气头及自锁气缸,所述自锁气缸缸体连接至沉积腔盖,其活塞杆的端部连接至喷气头的上表面;还包括传感器,电磁阀与信号处理器,所述传感器为压力传感器/距离传感器,所述喷气头下表面圆心处设有凹槽,所述传感器设于所述凹槽内,所述传感器的输出端连接至信号处理器的输入端,所述电磁阀设于供气管上以控制其导通/关闭,所述信号处理器的输出端连接至电磁阀.本实用新型一次性实现喷气头与晶片之间间距调节,自动化程度高,操作方便,避免人为失误.

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2021-09-16
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