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XH018器件
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3月25日，模拟/混合信号和光电解决方案的专业晶圆厂X-FAB Silicon Foundries进行了增强，扩大了其XS018 180 nm传感器工艺的范围。因此，该公司现在能够提供光电二极管专用工艺核心模块。以前XS018工艺主要集中在多像素CMOS图像传感器的制造上，而这个新模块则专门用于光电二极管的制造。 原文链接：https://www.xianjichina.com/special/detail_478184.html 来源：贤集网 著作权归作者所有。商业转载请联系作者获得授权，非商业转载请注明出处。

X－FAB增强工艺改进显著提升光电二极管响应速度
X－FAB增强工艺改进显著提升光电二极管响应速度
X-FAB对其XS018 180nm传感器工艺进行了一系列增强工艺改进，这些改进显著提升了光电二极管的响应速度和其他关键性能。以下是对这一改进的详细归纳：一、工艺改进概述X-FAB通过对其XS018 180nm传感器工艺的优化和扩展，推出了专门用于光电二极管制造的新模块。这一新模块不仅丰富了光电传感器的选项，还显著增强了产品的性能，提升了......
光电二极... XH01... 图像传感...
2021-03-29
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