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光刻技术
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集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。 随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。

集成电路工艺：材料选择、光刻技术、薄膜沉积和离子注入
集成电路工艺：材料选择、光刻技术、薄膜沉积和离子注入
摘要集成电路工艺是现代电子技术中的重要组成部分，它对于集成电路的性能和可靠性起着至关重要的作用。本文将从四个方面对集成电路工艺进行详细阐述，包括材料选择、光刻技术、薄膜沉积和离子注入。一、材料选择在集成电路制造过程中，材料的选择对于器件性能和制造工艺有着直接影响。首先是半导体材料的选择，常见的有硅(Si)、砷化镓(GaAs)等。其次是绝缘......
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　　光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。　　光刻技术与我们的生活息息相关，我们用的手机，电脑等各种各样的......
芯片升级
2021-01-28
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助力高级光刻技术：存储和运输EUV掩模面临的挑战
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　　随着半导体行业持续突破设计尺寸不断缩小的极限，极紫外 (EUV) 光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中。对于 7 纳米及更小的高级节点，EUV 光刻技术是一种能够简化图案形成工艺的支持技术。要在如此精细的尺寸下进行可靠制模，超净的掩模必不可少。　　与所有掩模一样，用于 EUV 光刻的掩模依靠掩模光罩盒实现安全存储，以及保护它们......
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　　光刻是将掩模版上的图形转移到涂有光致抗蚀剂(或称光刻胶)的硅片上，通过一系列生产步骤将硅片表面薄膜的特定部分除去的一种图形转移技术。光刻技术是借用照相技术、平板印刷技术的基础上发展起来的半导体关键工艺技术。　　通俗易懂的说，集成电路制造，是要在几平方厘米的面积上，成批的制造出数以亿计的器件，而每个器件结构的也相当复杂，如图1所示。打个......
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