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双反应台电感耦合
双反应台电感耦合
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（全球TMT2021年3月16日讯）中微半导体设备（上海）股份有限公司（简称“中微公司”）在SEMICON China 2021期间正式发布了新一代电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo Twin-Star®，用于IC器件前道和后道制程导电/电介质膜的刻蚀应用。

中微公司发布双反应台电感耦合等离子体刻蚀设备Primo Twin－Star（R）
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中微公司发布的双反应台电感耦合等离子体刻蚀设备Primo Twin-Star（R）是一款先进的半导体加工设备，以下是对该设备的详细介绍：一、设备概述Primo Twin-Star（R）是中微公司基于其成熟的单台反应器电感耦合等离子体（ICP）刻蚀技术和双台反应器的Primo平台而开发的新一代刻蚀设备。该设备主要用于IC器件前道和后道制程导......
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2021-03-17
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