原标题：国产半导体设备商拓荆科技冲刺科创板：供货中芯华虹长江存储，已进 14nm 产线

国产半导体设备商拓荆科技在冲刺科创板的过程中，展现了其在半导体薄膜沉积设备领域的显著成就和竞争力。以下是对该话题的详细分析：

一、公司概况与业务

拓荆科技股份有限公司成立于2010年04月28日，总部位于辽宁省沈阳市浑南区。公司主营业务为半导体薄膜沉积设备的研发、生产和销售，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个系列。这些设备在芯片制造过程中具有关键作用，与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造的三大主设备。

二、市场地位与供货情况

拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，其产品在市场上具有重要地位。公司供货给中芯国际、华虹集团、长江存储等国内主流晶圆厂，产品已广泛应用于28/14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128层3D NAND FLASH晶圆制造产线。此外，公司还开始了10nm及以下制程产品的验证测试，显示出其在先进制程领域的研发实力和市场前瞻性。

三、科创板冲刺与融资计划

拓荆科技冲刺科创板的过程备受关注。公司在科创板IPO申请中已获得受理，并计划募资约10亿元，用于高端半导体设备扩产、先进半导体设备的技术研发与改进、ALD设备研发与产业化和补充流动资金等项目。这一举措将助力公司进一步扩大产能、提升技术水平并增强市场竞争力。

四、技术研发与创新能力

拓荆科技在技术研发方面表现出色。公司拥有一支强大的研发团队，研发人员占比高达43.56%，且核心技术人员均具备丰富的行业经验和技术背景。公司在机台结构、传动模块、反应腔体、关键结构件、气路、温度控制系统等方面形成了一系列自研设计，并构建了较为完善的知识产权体系。截至当前时间，公司累计已获授权的专利达数百项，其中发明专利占据相当比例。

五、财务状况与市场前景

尽管拓荆科技在研发投入上持续加大力度，导致公司尚未实现盈利，但其营收增长迅速。从2018年至2020年，公司营业收入从7064.4万元增长至4.36亿元，复合增长率达148.32%。随着半导体产业的快速发展和市场需求的不断增长，拓荆科技的市场前景广阔。公司表示将加大集成电路核心先进设备的研发力度，保持技术领先并扩大产业规模以进一步提升市场占有率。

六、总结与展望

综上所述，拓荆科技作为国产半导体设备商在冲刺科创板的过程中展现了其强大的技术实力和市场竞争力。公司供货给中芯国际、华虹集团、长江存储等国内主流晶圆厂并已进入14nm产线显示出其产品的广泛应用和高端性能。未来随着公司融资计划的实施和研发力度的加大拓荆科技有望在半导体薄膜沉积设备领域取得更加显著的成就并为我国半导体产业的发展做出重要贡献。