产品分类

本发明提供一种单片晶圆湿式处理设备及处理方法,设备包括支撑组件,支撑组件包括用于支撑晶圆的支撑部以及设置在支撑部的边缘区域的外围用于固定晶圆的保持部,支撑部具有边缘区域及中间凹陷区域,支撑部上设置有能够在支撑部的上方形成多个气体顶针的多个气体通道,多个所述气体顶针能够将放置在所述支撑部上方由所述保持部固定的晶圆托起.并且晶圆下表面完全处于气体氛围中这样在支撑组件高速旋转时,可以避免晶圆的中间区域凹陷,从而避免造成晶圆的圆环缺陷.气体顶针的形成还能够避免蒸汽在晶圆表面凝结,进而避免产生晶圆表面的中心圆形缺陷.本发明提供的单片晶圆湿式处理方法采用上述处理设备,同样具备相同技术效果.