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光罩制造
光罩制造
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本发明揭示一种铬光罩制造方法.一光罩基材以活化剂活化其上表面,以用于无电极铬电镀.其次,该活化光罩基材接着沉浸于无电极铬电镀溶液中,以镀上薄的铬层,此无电极铬电镀制程将一直持续到所要的厚度形成为止.较佳地,当最初的无电极电镀铬层成长至所要的厚度之后,一电镀制程可被使用.接着,将具有铬层的该光罩基材暴露于氧化环境,以于该铬层上形成一抗反射层.之后,一光阻膜形成于该反射层上.接着该光阻膜根据预先决定的图案形成图案.其次,穿过该带有图案光阻膜上的开口,干式蚀刻或湿式蚀刻该反射层及该铬层,随后再将该光阻膜去除以形成所要的光罩.

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中芯国际 光罩制造 晶圆测试
2021-05-17
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