原标题：南大光电毛智彪博士谈 ArF 光刻胶国产化的机遇和挑战

南大光电毛智彪博士关于ArF光刻胶国产化的机遇和挑战的论述，主要集中在以下几个方面：

机遇

1. 市场需求增长：

• 随着汽车电子、5G等新应用的持续扩大，国内对IC光刻胶的市场需求进一步增长。这种需求增长为国产光刻胶提供了广阔的市场空间。

• 同时，国外光刻胶供应的不稳定，特别是美国对中国的贸易限制和日本光刻胶企业产能短缺，使得国内集成电路制造企业亟需稳定的光刻胶供应，这极大地带动了光刻胶国产替代的需求。

2. 政策支持：

• 国家对集成电路产业和软件产业的高质量发展给予了政策上的支持，包括税收减免等优惠措施，这有利于国内光刻胶产业的发展。

3. 技术突破：

• 南大光电在ArF光刻胶领域取得了关键性的突破，成功开发出国内第一支通过产品验证的国产ArF光刻胶，为国产光刻胶的产业化奠定了基础。

挑战

1. 本土人才缺乏：

• 国产光刻胶产业需要引进和自主培养大量专业人才，以支撑产业的发展。然而，目前本土人才相对缺乏，是产业发展面临的一大挑战。

2. 检测验证成本高昂：

• 光刻胶产品的检测验证成本非常高昂，国内目前还缺少必要的检测验证能力，这增加了国产光刻胶的研发和产业化难度。

3. 客制化特性：

• 国产光刻胶的国产替代现实决定了其现阶段的客制化特性，即需要根据不同客户的需求进行定制化生产，这增加了生产难度和成本。

4. 产业链不完善：

• 国内缺少光刻胶材料产业链，特别是对光刻胶原材料的研发和生产能力不足。光刻胶的原材料如溶剂、成膜树脂、光致酸剂、抑制剂等，特别是成膜树脂的研发和生产难度极大，需要建立起完整的产业链以支撑国产光刻胶的长久健康发展。

5. 技术挑战：

• ArF光刻胶的复杂性和高精度要求使得其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险。在应用工艺的改进、完善等方面的表现，都会决定ArF光刻胶的量产规模和经济效益。

综上所述，南大光电毛智彪博士认为，ArF光刻胶国产化既面临着市场需求增长、政策支持和技术突破等机遇，也面临着本土人才缺乏、检测验证成本高昂、客制化特性、产业链不完善和技术挑战等挑战。为了推动国产光刻胶产业的发展，需要加大人才引进和培养力度、提升检测验证能力、完善产业链布局、加强技术研发和创新等方面的工作。