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Dialog将非易失性电阻式RAM技术授权与格芯22FDX平台,服务IoT和AI应用

来源: 电子产品世界
2020-10-21
类别:业界动态
eye 41
文章创建人 拍明

原标题:Dialog将非易失性电阻式RAM技术授权与格芯22FDX平台,服务IoT和AI应用

一、合作核心:技术授权与平台整合

  1. 技术授权内容

    • 22nm FD-SOI工艺:提供低功耗(动态功耗降低50%)、高能效(性能提升20%)和抗辐射能力(适用于工业场景)。

    • 灵活电压调节:支持0.4V-1.8V宽电压范围,适配IoT设备的电池供电需求。

    • 提供基于氧化铪(HfO₂)的1T1R(1晶体管+1电阻) RRAM单元设计,支持低功耗、高密度存储。

    • 集成模拟/数字混合信号接口,适配格芯22FDX工艺的FD-SOI(全耗尽绝缘体上硅)特性。

    • Dialog授权RRAM IP

    • 格芯22FDX平台优势

  2. 技术互补性

    • FD-SOI的体偏置(Body Bias)技术可动态调节阈值电压,优化RRAM的读写性能(如降低写入电压至1.5V)。

    • 写入耐久性达10⁷次(传统Flash为10⁵次),数据保留时间>10年(-40℃~125℃)。

    • 单元面积仅4F²(4平方特征尺寸),密度是eFlash的3倍。

    • Dialog的RRAM优势

    • 格芯22FDX的支撑

二、RRAM技术解析:为何适配IoT与AI?

  1. RRAM工作原理与优势

    • 通过电场控制金属氧化物(如HfO₂)中的氧空位迁移,形成高/低阻态(“1”/“0”)。

    • 写入速度<10ns,功耗仅pJ级(Flash为nJ级)。

    • 原理

    • 对比其他存储技术


      技术写入速度耐久性成本($/MB)适用场景
      RRAM高(10⁷次)IoT边缘设备、AI推理
      Flash中(10⁵次)手机、SSD
      MRAM高(10¹⁵次)汽车电子、工业控制


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  1. 22FDX工艺的协同效应

    • 22FDX的SOI结构天然屏蔽α粒子干扰,适合航天、工业IoT等严苛环境。

    • FD-SOI的背栅偏置技术可降低RRAM的待机功耗(静态电流<1nA)。

    • 低功耗设计

    • 抗辐射能力

三、应用场景与市场价值

  1. IoT边缘设备

    • RRAM的高密度存储支持健康监测数据本地缓存(如连续7天ECG记录)。

    • 结合Dialog的低功耗MCU和RRAM,实现自供电传感器节点(如农业环境监测)。

    • 案例:土壤湿度传感器+RRAM存储阈值参数,功耗降低至μW级

    • 智能传感器

    • 可穿戴设备

  2. 边缘AI推理

    • 工业设备预测性维护:传感器数据+RRAM存储的AI模型,实现故障提前预警。

    • RRAM的快速读写能力加速AI模型加载(如语音关键词识别模型加载时间<1ms)。

    • TinyML模型存储

    • 案例

  3. 市场规模与增长

    • 2023年占非易失性存储市场3%,2028年或提升至15%(受IoT/AI需求驱动)。

    • 2023年规模约45亿美元,预计2028年达82亿美元(CAGR 12.7%)。

    • IoT存储市场

    • RRAM份额

四、用户与行业影响

  1. 对IoT设备商的价值

    • 写入速度提升10倍,支持实时数据记录(如工业设备状态日志)。

    • RRAM替代部分Flash存储,BOM成本降低20%-30%(以智能电表为例)。

    • 成本优化

    • 性能提升

  2. 对AI芯片设计的影响

    • RRAM可直接集成在AI加速器旁,减少数据搬运能耗(如边缘端AI推理功耗降低40%)。

    • 近存计算(Near-Memory Computing)

  3. 行业格局变化

    • 初创公司(如Weebit Nano)或借力格芯平台推出定制化RRAM IP。

    • 三星、美光等需加速RRAM布局,否则可能被Dialog+格芯的组合抢占市场。

    • 传统存储厂商受冲击

    • 新玩家入局

五、技术挑战与应对

  1. 关键挑战

    • 需验证10年数据保留能力(尤其工业级-40℃~125℃环境)。

    • RRAM的金属氧化物层需与22FDX的CMOS工艺兼容,需解决高温退火对存储层的影响。

    • 工艺集成难度

    • 长期可靠性

  2. 解决方案

    • 在22FDX中引入后端制程(BEOL)优化,减少金属互连的寄生电容。

    • 采用双层阻变材料(如HfO₂/Al₂O₃堆叠),提升耐久性至10⁹次

    • Dialog技术优化

    • 格芯工艺改进

六、用户决策建议

  1. 适用场景推荐

    • 高性能计算(RRAM读写速度仍低于DRAM)。

    • 需要长期数据存储的档案系统(RRAM的写入次数有限)。

    • 电池供电的IoT终端(如智能水表、环境传感器)。

    • 需要频繁擦写的AI边缘设备(如语音助手缓存)。

    • 优先采用场景

    • 谨慎采用场景

  2. 开发支持

    • RRAM控制器IP,支持SPI/I²C接口,简化硬件设计。

    • 22FDX+RRAM的PDK(工艺设计套件),支持Cadence、Synopsys等EDA工具链。

    • 格芯提供

    • Dialog提供

七、总结与展望

  1. 核心结论

    • 技术协同效应:Dialog的RRAM技术与格芯22FDX平台结合,为IoT和AI应用提供了低功耗、高密度、高可靠性的存储解决方案。

    • 市场潜力:随着IoT设备数量的爆发式增长(预计2025年全球连接设备超300亿台),RRAM技术有望成为嵌入式存储的主流选择。

  2. 用户行动建议

    • 与Dialog和格芯合作,定制符合特定需求的RRAM IP,抢占市场先机。

    • 评估RRAM替代传统存储(如EEPROM、NOR Flash)的可行性,重点关注功耗、面积和成本。

    • 硬件开发者

    • 系统集成商

通过以上分析,Dialog与格芯的合作不仅是一次技术授权,更是IoT与AI领域存储技术的一次重要升级。用户需根据应用场景权衡技术优势与成本,而行业则可能因此加速向低功耗、高密度存储转型。


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标签: 电阻式RAM

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