使用 Die-to-Die PHY IP 的系统级封装的量产测试


原标题:使用 Die-to-Die PHY IP 的系统级封装的量产测试
随着Chiplet架构与c的普及,Die-to-Die(D2D)PHY IP(如UCIe、HBM PHY、AMD Infinity Fabric等)的量产测试成为确保系统级封装(SiP)良率与可靠性的核心环节。以下从测试挑战、技术方案、量产实施三方面展开分析,结合实际案例与数据提供可落地的解决方案。
一、D2D PHY IP测试的核心挑战
1. 高速信号完整性难题
问题表现:
D2D PHY工作频率已突破56Gbps(UCIe Gen2),信号衰减、串扰、抖动导致误码率(BER)显著增加。
案例:某AI芯片在112Gbps UCIe PHY测试中,发现串扰噪声导致BER从10⁻¹²升至10⁻⁹,超出标准3个数量级。
根本原因:
封装基板材料(如ABF)介电损耗随频率升高(Df在10GHz时达0.015),高频信号衰减达3dB/cm。
微凸块(Micro Bump)间距缩小至10μm以下,寄生电容增加20%,导致阻抗失配。
2. 多物理场耦合干扰
问题表现:
封装内多芯片热耦合导致D2D PHY工作温度差异>20℃,引发时序偏差(ΔTj=20℃→ΔTskew=5ps)。
案例:某HPC芯片在高温测试(Tj=125℃)中,发现D2D PHY时序裕量从300ps压缩至150ps,导致链路建立失败。
根本原因:
芯片间热膨胀系数(CTE)不匹配(如Si=2.6ppm/℃,有机基板=17ppm/℃),导致应力引起的时序漂移。
电源完整性(PI)问题:多芯片PDN网络阻抗波动(ΔZ=0.1Ω@1GHz),引发电压噪声(ΔV=50mV),影响PHY供电稳定性。
3. 测试覆盖率与效率矛盾
问题表现:
传统ATE测试成本高昂(单芯片测试时间>10秒),而D2D PHY需测试所有通道(如1024通道),导致测试时间指数级增长。
案例:某4nm工艺AI芯片的D2D PHY测试时间从2小时/片(单通道)扩展至200小时/片(全通道),量产效率下降90%。
根本原因:
测试向量复杂度提升(如UCIe需要支持PRBS31、LFSR等模式),单通道测试数据量达10TB/s。
边界扫描(Boundary Scan)覆盖率不足:传统JTAG仅覆盖10%的PHY寄存器,无法检测深层次故障。
二、量产测试技术方案
1. 高速信号完整性测试技术
技术方案:
高速示波器(如Keysight DSOZ634A,带宽70GHz,采样率160GSa/s)
误码仪(如Anritsu MP1900A,支持BER<10⁻¹⁸测试)
预加重/去加重(Pre-emphasis/De-emphasis):通过动态调整发射端预加重(Tx Pre-cursor=-3dB,Post-cursor=+2dB),补偿高频衰减。
均衡器(EQ)优化:采用FFE(前馈均衡)与DFE(判决反馈均衡)组合,将信道损耗容限从15dB提升至25dB。
测试设备:
实施效果:
某数据中心芯片通过上述优化,将112Gbps UCIe PHY的BER从10⁻⁹降至10⁻¹⁵,满足量产标准。
2. 多物理场耦合测试方法
技术方案:
使用可编程电源(如Keysight N6705C)注入±100mV的电压噪声,验证PHY在电源波动下的稳定性。
在ATE中集成红外热成像模块(如FLIR A655sc,精度±1℃),实时监测芯片温度分布。
通过动态电压频率调整(DVFS)技术,在-40℃~125℃范围内扫描PHY性能,生成时序-温度补偿表。
热-电协同测试:
电源噪声注入测试:
实施效果:
某5G基站芯片通过热-电协同测试,将高温下的时序裕量从150ps提升至250ps,良率提升15%。
3. 测试效率提升策略
技术方案:
使用机器学习算法(如XGBoost)预测PHY故障模式,将测试向量长度缩短40%。
案例:某GPU芯片通过AI优化,将测试时间从4小时/片降至2.4小时/片,测试成本降低35%。
采用多通道ATE(如Advantest V93000,支持512通道并行测试),将单芯片测试时间从200小时压缩至4小时。
引入测试资源池化技术,动态分配ATE通道资源,设备利用率从30%提升至80%。
并行测试架构:
AI驱动的测试优化:
三、量产测试实施流程
1. 测试流程设计
阶段划分:
阶段 测试内容 工具/设备 良率控制目标 晶圆级测试 PHY信号眼图、抖动、BER 高速探针台(FormFactor ZEUS) ≥95% 封装后测试 多芯片协同工作、热应力测试 多通道ATE(Advantest V93000) ≥90% 系统级测试 端到端数据传输、长期可靠性 定制化测试板(含高速连接器) ≥85%
2. 关键参数监控
电气参数:
发射端输出幅度(Vpp):800mV±50mV
接收端灵敏度(BER=10⁻¹²):≤-20dBm
时序参数:
时钟抖动(RMS):≤0.5ps
通道间偏斜(Skew):≤5ps
可靠性参数:
高温高湿(85℃/85%RH)测试寿命:≥1000小时
温度循环(-55℃~125℃,1000次)失效率:<0.1%
3. 良率提升案例
某AI芯片量产案例:
问题:UCIe PHY在量产测试中良率仅75%,主要故障为眼图闭合(BER>10⁻¹²)。
优化措施:
结果:良率提升至92%,测试成本降低28%。
调整封装基板叠层结构,将高频信号层介质厚度从3mil降至2mil,衰减降低1.5dB。
在ATE中增加动态均衡器校准步骤,补偿信道失配。
引入AI驱动的测试向量优化,将测试时间从5小时/片压缩至3小时/片。
四、未来趋势与建议
1. 技术趋势
光子-电子混合测试:
通过集成硅光子学(SiPh)测试模块,实现光-电协同测试,支持600Gbps以上D2D PHY。
在片测试(On-Chip Test):
将测试逻辑(如BIST控制器)嵌入PHY IP,实现自测试功能,减少对ATE的依赖。
2. 实施建议
设计阶段:
在D2D PHY IP中预留可测试性设计(DFT)接口(如JTAG 2.0、IEEE 1149.7),降低测试复杂度。
量产阶段:
建立多维度测试数据库(包含温度、电压、频率等参数),通过大数据分析优化测试策略。
总结:D2D PHY IP量产测试的核心逻辑
信号完整性优先:通过预加重、均衡器等技术补偿高频衰减,确保BER<10⁻¹²。
多物理场协同:集成热、电、力多场测试,覆盖-40℃~125℃全温区。
效率与成本平衡:采用并行测试、AI优化等手段,将测试时间压缩至小时级。
全流程监控:从晶圆到系统级测试,建立良率与参数的闭环反馈机制。
通过上述技术方案与实施流程,可实现D2D PHY IP在SiP量产中的高良率(>90%)、低成本(测试成本<$0.5/片)与高可靠性(MTBF>10万小时),为Chiplet技术的规模化应用提供保障。
责任编辑:David
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