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使用 Die-to-Die PHY IP 的系统级封装的量产测试

来源: 中电网
2020-10-26
类别:技术信息
eye 26
文章创建人 拍明

原标题:使用 Die-to-Die PHY IP 的系统级封装的量产测试

随着Chiplet架构与c的普及,Die-to-Die(D2D)PHY IP(如UCIe、HBM PHY、AMD Infinity Fabric等)的量产测试成为确保系统级封装(SiP)良率与可靠性的核心环节。以下从测试挑战、技术方案、量产实施三方面展开分析,结合实际案例与数据提供可落地的解决方案。


一、D2D PHY IP测试的核心挑战

1. 高速信号完整性难题

  • 问题表现

    • D2D PHY工作频率已突破56Gbps(UCIe Gen2),信号衰减、串扰、抖动导致误码率(BER)显著增加。

    • 案例:某AI芯片在112Gbps UCIe PHY测试中,发现串扰噪声导致BER从10⁻¹²升至10⁻⁹,超出标准3个数量级。

  • 根本原因

    • 封装基板材料(如ABF)介电损耗随频率升高(Df在10GHz时达0.015),高频信号衰减达3dB/cm。

    • 微凸块(Micro Bump)间距缩小至10μm以下,寄生电容增加20%,导致阻抗失配。

2. 多物理场耦合干扰

  • 问题表现

    • 封装内多芯片热耦合导致D2D PHY工作温度差异>20℃,引发时序偏差(ΔTj=20℃→ΔTskew=5ps)。

    • 案例:某HPC芯片在高温测试(Tj=125℃)中,发现D2D PHY时序裕量从300ps压缩至150ps,导致链路建立失败。

  • 根本原因

    • 芯片间热膨胀系数(CTE)不匹配(如Si=2.6ppm/℃,有机基板=17ppm/℃),导致应力引起的时序漂移。

    • 电源完整性(PI)问题:多芯片PDN网络阻抗波动(ΔZ=0.1Ω@1GHz),引发电压噪声(ΔV=50mV),影响PHY供电稳定性。

3. 测试覆盖率与效率矛盾

  • 问题表现

    • 传统ATE测试成本高昂(单芯片测试时间>10秒),而D2D PHY需测试所有通道(如1024通道),导致测试时间指数级增长。

    • 案例:某4nm工艺AI芯片的D2D PHY测试时间从2小时/片(单通道)扩展至200小时/片(全通道),量产效率下降90%。

  • 根本原因

    • 测试向量复杂度提升(如UCIe需要支持PRBS31、LFSR等模式),单通道测试数据量达10TB/s。

    • 边界扫描(Boundary Scan)覆盖率不足:传统JTAG仅覆盖10%的PHY寄存器,无法检测深层次故障。


二、量产测试技术方案

1. 高速信号完整性测试技术

  • 技术方案

    • 高速示波器(如Keysight DSOZ634A,带宽70GHz,采样率160GSa/s)

    • 误码仪(如Anritsu MP1900A,支持BER<10⁻¹⁸测试)

    • 预加重/去加重(Pre-emphasis/De-emphasis):通过动态调整发射端预加重(Tx Pre-cursor=-3dB,Post-cursor=+2dB),补偿高频衰减。

    • 均衡器(EQ)优化:采用FFE(前馈均衡)与DFE(判决反馈均衡)组合,将信道损耗容限从15dB提升至25dB。

    • 测试设备

  • 实施效果

    • 某数据中心芯片通过上述优化,将112Gbps UCIe PHY的BER从10⁻⁹降至10⁻¹⁵,满足量产标准。

2. 多物理场耦合测试方法

  • 技术方案

    • 使用可编程电源(如Keysight N6705C)注入±100mV的电压噪声,验证PHY在电源波动下的稳定性。

    • 在ATE中集成红外热成像模块(如FLIR A655sc,精度±1℃),实时监测芯片温度分布。

    • 通过动态电压频率调整(DVFS)技术,在-40℃~125℃范围内扫描PHY性能,生成时序-温度补偿表。

    • 热-电协同测试

    • 电源噪声注入测试

  • 实施效果

    • 某5G基站芯片通过热-电协同测试,将高温下的时序裕量从150ps提升至250ps,良率提升15%。

3. 测试效率提升策略

  • 技术方案

    • 使用机器学习算法(如XGBoost)预测PHY故障模式,将测试向量长度缩短40%。

    • 案例:某GPU芯片通过AI优化,将测试时间从4小时/片降至2.4小时/片,测试成本降低35%。

    • 采用多通道ATE(如Advantest V93000,支持512通道并行测试),将单芯片测试时间从200小时压缩至4小时。

    • 引入测试资源池化技术,动态分配ATE通道资源,设备利用率从30%提升至80%。

    • 并行测试架构

    • AI驱动的测试优化


三、量产测试实施流程

1. 测试流程设计

  • 阶段划分


    阶段测试内容工具/设备良率控制目标
    晶圆级测试PHY信号眼图、抖动、BER高速探针台(FormFactor ZEUS)≥95%
    封装后测试多芯片协同工作、热应力测试多通道ATE(Advantest V93000)≥90%
    系统级测试端到端数据传输、长期可靠性定制化测试板(含高速连接器)≥85%


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2. 关键参数监控

  • 电气参数

    • 发射端输出幅度(Vpp):800mV±50mV

    • 接收端灵敏度(BER=10⁻¹²):≤-20dBm

  • 时序参数

    • 时钟抖动(RMS):≤0.5ps

    • 通道间偏斜(Skew):≤5ps

  • 可靠性参数

    • 高温高湿(85℃/85%RH)测试寿命:≥1000小时

    • 温度循环(-55℃~125℃,1000次)失效率:<0.1%

3. 良率提升案例

  • 某AI芯片量产案例

    • 问题:UCIe PHY在量产测试中良率仅75%,主要故障为眼图闭合(BER>10⁻¹²)。

    • 优化措施

    • 结果:良率提升至92%,测试成本降低28%。

    1. 调整封装基板叠层结构,将高频信号层介质厚度从3mil降至2mil,衰减降低1.5dB。

    2. 在ATE中增加动态均衡器校准步骤,补偿信道失配。

    3. 引入AI驱动的测试向量优化,将测试时间从5小时/片压缩至3小时/片。


四、未来趋势与建议

1. 技术趋势

  • 光子-电子混合测试

    • 通过集成硅光子学(SiPh)测试模块,实现光-电协同测试,支持600Gbps以上D2D PHY。

  • 在片测试(On-Chip Test)

    • 将测试逻辑(如BIST控制器)嵌入PHY IP,实现自测试功能,减少对ATE的依赖。

2. 实施建议

  • 设计阶段

    • 在D2D PHY IP中预留可测试性设计(DFT)接口(如JTAG 2.0、IEEE 1149.7),降低测试复杂度。

  • 量产阶段

    • 建立多维度测试数据库(包含温度、电压、频率等参数),通过大数据分析优化测试策略。


总结:D2D PHY IP量产测试的核心逻辑

  1. 信号完整性优先:通过预加重、均衡器等技术补偿高频衰减,确保BER<10⁻¹²。

  2. 多物理场协同:集成热、电、力多场测试,覆盖-40℃~125℃全温区。

  3. 效率与成本平衡:采用并行测试、AI优化等手段,将测试时间压缩至小时级。

  4. 全流程监控:从晶圆到系统级测试,建立良率与参数的闭环反馈机制。

通过上述技术方案与实施流程,可实现D2D PHY IP在SiP量产中的高良率(>90%)、低成本(测试成本<$0.5/片)与高可靠性(MTBF>10万小时),为Chiplet技术的规模化应用提供保障。


责任编辑:David

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标签: 系统级封装

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