原标题：晶瑞电材：ArF（193）高端光刻胶研发工作已正式启动

晶瑞电材在高端光刻胶领域的研发工作一直备受关注，特别是在ArF（193nm）高端光刻胶方面，公司取得了显著进展。以下是关于晶瑞电材ArF（193）高端光刻胶研发工作的详细情况：

一、研发工作正式启动

晶瑞电材已经正式启动了ArF（193nm）高端光刻胶的研发工作。这一决定是公司战略布局的重要组成部分，旨在通过自主研发，打破国外技术垄断，满足国内集成电路产业对高端光刻胶的迫切需求。

二、研发进展与设备购置

在研发过程中，晶瑞电材已经完成了关键设备的购置和调试工作。这些设备包括光刻机、匀胶显影机、扫描电镜、台阶仪等，其中ASML1900Gi型光刻机设备正在积极调试中。这些设备的到位和调试成功，为ArF高端光刻胶的研发工作提供了有力的技术保障。

三、KrF高端光刻胶的量产情况

值得注意的是，晶瑞电材在KrF（248nm）高端光刻胶的研发和量产方面也取得了重要进展。公司高端KrF光刻胶已完成中试，建成了中试示范线，并进入客户测试阶段。目前，KrF高端光刻胶部分品种已经实现量产，这为公司积累了丰富的研发和生产经验，也为ArF高端光刻胶的研发工作奠定了坚实基础。

四、全产业链布局与技术攻关

晶瑞电材不仅注重光刻胶本身的研发和生产，还积极开展对上游材料树脂单体及配方的研究。公司旨在通过全产业链布局，实现关键材料的自主可控，提升整体竞争力。同时，公司还牵头发起了超大规模集成电路用高端光刻胶技术攻关及产业化工程的攻关任务，旨在通过自主研发，打通ArF、KrF光刻胶用树脂的工艺合成路线，满足当前集成电路产业关键材料市场需求。

五、未来展望

随着全球集成电路产业的快速发展和国内市场的不断扩大，高端光刻胶的需求量将持续增长。晶瑞电材作为国内领先的半导体材料供应商，将继续加大在高端光刻胶领域的研发投入和产业化力度，推动公司技术水平和市场占有率的不断提升。同时，公司也将积极寻求与国内外优秀企业的合作机会，共同推动半导体材料产业的创新发展。

综上所述，晶瑞电材ArF（193）高端光刻胶的研发工作已经正式启动并取得初步进展。公司将继续秉承创新发展的理念，致力于成为全球领先的半导体材料供应商之一。