原标题：从夜视到“元宇宙”入口设备，ALD光学镀膜不断突破

从夜视到“元宇宙”入口设备，ALD（原子层沉积技术）光学镀膜在技术和市场应用上不断取得突破，主要体现在以下几个方面：

一、技术突破

1. 高精度与均匀性：

• ALD技术以其出色的膜层厚度均匀性、保形性和高性价比，在现代光学镀膜领域受到越来越多的重视。它能够实现纳米级的精确控制，确保薄膜的厚度和成分满足各种复杂应用的需求。

• ALD工艺通过交替引入前驱体气体，在衬底表面逐层生长薄膜，每一步反应后都进行气体的净化和排放，以确保反应的纯净性和薄膜的质量。这种逐层生长的方式使得ALD工艺在复杂几何形状和高纵深比的结构上也能实现均匀的薄膜生长。

2. 适用范围广：

• ALD技术适用于在三维结构的部件产品，尤其是带有较大深宽比结构的沟槽、微孔以及复杂曲面的产品上沉积高保形、高致密、高均匀性的光学薄膜。这种特性有效地弥补了现有PVD（物理气相沉积）等技术的不足。

3. 创新与发展：

• 为了进一步提升ALD的镀膜速度，以满足大规模生产的需求，业界不断探索新技术。例如，思锐智能展示的C2R旋转等离子体增强型ALD（PEALD），将空间ALD技术与等离子技术相结合，显著提高了镀膜速度，同时保持了ALD技术的优异性能。

二、市场应用突破

1. 夜视产品：

• 在夜视产品的生产中，ALD技术被广泛应用于在大面积、高深宽比的微通道板中沉积高保形电阻和发射层薄膜材料。这些薄膜材料能够提高微通道板的二次电子产额，增强产品性能，如将弱光放大为强光，实现光的放大效果。

2. 光学系统：

• ALD技术在光学系统中的应用也非常广泛。例如，在衍射光栅中填充高折射材料以产生平坦的光栅结构，保持光栅结构清洁；在相机透镜上沉积均匀的减反增透薄膜材料以提高成像质量；在硅基微显示（Micro-OLED）薄膜封装中，ALD技术能够制作非常致密的、保护性好的薄膜，有效阻隔水和氧，提高OLED的使用寿命。

3. 元宇宙入口设备：

• 随着“元宇宙”概念的兴起，AR/VR等消费类终端作为元宇宙的重要场景入口设备，其创新发展对光学镀膜设备提出了更高的要求。ALD技术因其高精度、高均匀性和广泛的适用性，在AR/VR设备的光学镀膜中展现出巨大的潜力。例如，在Micro-OLED的生产中，ALD技术已经成为必备的生产工艺之一。

三、未来展望

随着技术的不断进步和市场的持续拓展，ALD光学镀膜有望在更多领域实现突破和应用。例如，在半导体集成电路行业中，随着电子器件的不断微型化和集成化发展，ALD技术凭借其优异的薄膜沉积性能，有望在芯片制造中发挥更大的作用。同时，随着“元宇宙”等新兴技术的不断发展，对光学镀膜设备的需求也将持续增长，为ALD技术的发展提供更广阔的市场空间。