原标题：LEMO推出带定位销的标准自锁多芯连接器

Atonarp宣布推出创新计量平台Aston，这一举措旨在显著提升半导体制造工艺的产量、吞吐量和效率。以下是关于Aston平台的详细解析：

一、Aston平台简介

• 背景：Atonarp，作为半导体、保健和制药行业分子传感及诊断产品的领先制造商，于2021年7月16日正式宣布推出Aston平台。该平台是一个创新型原位半导体计量平台，带有集成等离子体电离源，标志着半导体生产计量领域的一次重大演变。

• 特点：Aston专为半导体生产而设计，能够实现原位分子过程控制，使现有工厂运行更高效，推动产出提升。它具备高灵敏度和高精确度，能够准确提供实时工艺化学数据，其分子浓度测量灵敏度可达十亿分之一。

二、Aston平台的主要优势

1. 提升产量和吞吐量：

• Aston在某些应用中的单位工艺吞吐量可以提升40%以上，这对于晶圆厂来说是一个显著的改进。对于一家典型的晶圆厂，即使整体产能提高1%，每年的产量也能增加价值数千万美元。

• 通过快速、可操作的端点检测（EPD），Aston能够准确检测一个过程何时结束，从而优化生产流程。例如，在腔室清洁方面，Aston可将所需的清洁时间减少80%。

1. 适应恶劣环境：

• Aston对腐蚀性气体和气态污染物冷凝物具有抵抗力，能够在半导体生产中出现的恶劣条件下可靠运行。这得益于其独立的双电离源设计（包括一个经典的电子冲击电离源和一个无灯丝等离子体电离器），使得Aston能够在传统电子电离器会迅速腐蚀和失效的环境中使用。

2. 延长服务间隔：

• 与传统质量分析仪相比，Aston的服务间隔时间延长了100倍。它拥有自清洁能力，可以清除某些过程中产生的冷凝物沉积，减少了维护成本和时间。

3. 实时数据统计分析：

• Aston能够提供量化、可操作的实时数据，提高过程一致性。同时，它还能通过人工智能推进高性能机器学习，满足最苛刻的过程应用需求。

三、Aston平台的应用范围

Aston平台主要针对化学气相沉积（CVD）和蚀刻应用，这两种应用的年增长率均超过13%。它既可以在新腔室组装时安装在其中，也能够加装在已经运行的现有腔室中。此外，Aston还可与韩国ATI公司开发的智能压力控制器Psi组合使用，提供综合解决方案。

四、市场反响与未来发展

• Atonarp已向韩国和美国的领先半导体FAB和设备制造商交付了Aston平台，并收到积极反馈。随着半导体行业的不断发展，Aston平台有望在未来发挥更加重要的作用，推动半导体制造工艺的进一步升级和优化。

综上所述，Atonarp推出的创新计量平台Aston凭借其显著的优势和广泛的应用范围，正在逐步改变半导体制造工艺的面貌，为行业带来更高的产量、吞吐量和效率。