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华虹半导体宣布量产90nm BCD工艺:性能高、核心面积小

来源: 中电网
2021-06-08
类别:业界动态
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文章创建人 拍明

原标题:华虹半导体宣布量产90nm BCD工艺:性能高、核心面积小

  国产半导体厂商正在一步步追赶国际先进水平,日前华虹半导体宣布,该公司推出的90nm BCD工艺已经在华虹无锡12英寸生产线已实现规模量产。

  华虹指出,90nm BCD工艺具备性能高、核心面积较小等优势,拥有更佳的电性参数,并且得益于12英寸制程的稳定性,良率优异,为数字电源、数字音频功放等芯片应用提供了更具竞争力的制造方案。

  90nm BCD工艺还是先进工艺?对不了解半导体工艺的人来说可能真有这个疑问,这个新工艺的重点是BCD——BIPOLAR-CMOS-DMOS,是ST意法半导体在80年代发明的功率芯片技术。

  BCD是一种复杂的硅芯片制造工艺,每种BCD工艺都具备在同一颗芯片上成功整合三种不同制造技术的优点,包括用于高精度处理模拟信号的双极晶体管,用于设计数字控制电路的CMOS(互补金属氧化物半导体)和用于开发电源和高压开关器件的DMOS(双扩散金属氧化物半导体)。

  ST意法目前依然是全球领先的BCD工艺制造商,35年来生产了500万片晶圆,售出400亿颗芯片,仅2020年就售出近30亿颗芯片,工艺发展了十代了,此前主要是350nm、180nm、110nm等,最新量产的十代工艺也是90nm BCD。

  从这一点上来看,华虹的90nm BCD工艺确实是该领域的先进工艺,技术优势明显,而中芯国际等国内其他代工厂也在开发90nm BCD工艺,华虹的进度也是领先的。



责任编辑:David

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