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Vishay推出先进的30 V N沟道MOSFET,进一步提升隔离和非隔离拓扑结构功率密度和能效

来源: 中电网
2021-05-26
类别:新品快报
eye 11
文章创建人 拍明

原标题:Vishay推出先进的30 V N沟道MOSFET,进一步提升隔离和非隔离拓扑结构功率密度和能效

Vishay推出的先进30 V N沟道MOSFET,在隔离和非隔离拓扑结构中显著提升了功率密度和能效。以下是对该产品的详细介绍:

一、产品概述

Vishay推出的这款30 V N沟道MOSFET,采用了先进的TrenchFET技术,属于第五代功率MOSFET。其设计旨在提高工业、计算机、消费电子和通信应用中的功率密度,并显著增强热性能。

二、技术特点

  1. 高功率密度

    • 通过采用先进的封装技术和优化电路设计,该MOSFET实现了更高的功率密度。

    • 这使得在相同体积下,能够处理更多的功率,从而提高了系统的整体性能。

  2. 低功耗

    • 该MOSFET具有优异的导通电阻和栅极电荷乘积(FOM),这是衡量MOSFET开关性能的关键指标。

    • 较低的FOM值意味着在开关过程中产生的损耗更低,从而提高了能效。

  3. 增强型封装

    • 采用热增强型PowerPAK 1212-8S封装(部分型号为PowerPAK 1212-F封装),这种封装提供了更好的散热性能,有助于降低工作温度。

    • 同时,封装尺寸紧凑,适合高密度集成应用。

  4. 低导通电阻

    • 在10V栅极电压条件下,导通电阻低至一定水平(如SiSS52DN为0.95 mΩ,SiSD5300DN为0.71 mW)。

    • 这有助于减少在导通状态下的功率损耗。

三、应用领域

  1. 同步整流

    • 该MOSFET适用于同步整流应用,能够显著提高整流效率。

  2. DC/DC转换器

    • 在DC/DC转换器中,该MOSFET能够提供高效、稳定的功率转换。

  3. 开关柜拓扑结构

    • 适用于各种开关柜拓扑结构,提供可靠的开关性能。

  4. 服务器、通信和RF设备电源

    • 在服务器、通信和RF设备的电源中,该MOSFET能够降低能源损耗,提高能效。

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四、产品优势

  1. 简化设计

    • 该MOSFET的高性能使得设计人员能够简化电路结构,降低系统复杂度。

  2. 提高可靠性

    • 经过严格的测试和验证,该MOSFET符合RoHS标准,无卤素,提高了产品的可靠性。

  3. 缩短供货周期

    • 该产品已实现量产,供货周期为12周,能够快速满足市场需求。

五、产品型号与规格

Vishay推出的先进30 V N沟道MOSFET包括多个型号,如SiSS52DN和SiSD5300DN等。这些型号在封装、导通电阻、FOM值等方面略有差异,以满足不同应用的需求。

综上所述,Vishay推出的先进30 V N沟道MOSFET在隔离和非隔离拓扑结构中显著提升了功率密度和能效。其高性能、低功耗、增强型封装和广泛的应用领域使其成为工业、计算机、消费电子和通信等领域中的优选器件。


责任编辑:David

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