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芯和半导体片上无源电磁场仿真套件成功通过三星8LPP工艺认证

来源: 中电网
2021-05-17
类别:业界动态
eye 10
文章创建人 拍明

原标题:芯和半导体片上无源电磁场仿真套件成功通过三星8LPP工艺认证

芯和半导体片上无源电磁场仿真套件成功通过三星8LPP工艺认证,这一事件标志着芯和半导体在EDA(电子设计自动化)领域取得了重要进展,以下是对此事件的详细解读:

一、认证背景与意义

  1. 认证背景

    • 芯和半导体科技(上海)有限公司(简称“芯和半导体”)作为国内EDA行业的领导者,一直致力于为芯片设计公司提供先进的仿真解决方案。

    • 三星晶圆厂的8纳米低功耗(8LPP)工艺是在其上一代FinFET先进节点的基础上,对功率、性能和面积作了进一步优化,被认为是众多高性能应用中最具吸引力的工艺节点之一。

  2. 认证意义

    • 此次认证表明芯和半导体的片上无源电磁场(EM)仿真套件已经满足了三星8LPP工艺的高标准要求,能够显著提升IC设计公司在该工艺上的设计交付速度。

    • 这对于国产EDA工具来说是一次重要的突破,意味着国内芯片公司在使用先进工艺进行后仿真时,可以更多地依赖国产工具,降低了对国外软件的依赖风险。

二、套件组成与技术特点

  1. 套件组成

    • 芯和半导体的片上无源电磁场仿真套件包含了快速三维电磁场仿真器IRIS和快速自动PDK建模工具iModeler。

  2. 技术特点

    • IRIS采用了为先进工艺节点量身定做的最先进的EM仿真技术,提供了从DC到THz的精确全波算法,并通过多核并行计算和分布式处理实现仿真效率的加速。

    • IRIS还拥有多项匹配先进工艺节点的特定功能,如考虑线宽线距在加工时的偏差等,因此被多家设计公司广泛采用。

    • iModeler则能够通过内置丰富的模板及快速的IRIS仿真引擎自动生成PDK,帮助PDK工程师和电路设计工程师快速生成参数化模型。

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三、认证影响与未来展望

  1. 认证影响

    • 此次认证将增强芯和半导体在EDA领域的市场地位,吸引更多IC设计公司选择其解决方案。

    • 同时,这也将为三星等晶圆厂提供更多的国产EDA工具选择,有助于推动国产EDA工具在全球市场的普及和应用。

  2. 未来展望

    • 芯和半导体将继续与三星等晶圆厂进行深入合作,共同推动先进工艺技术的发展和应用。

    • 随着5G、智能手机、物联网等领域的快速发展,对高频/高速电子组件的需求将不断增加,芯和半导体的EDA解决方案将迎来更广阔的市场空间。

    • 芯和半导体将不断加大研发投入,提升产品性能和用户体验,为全球客户提供更加优质的EDA解决方案和服务。

综上所述,芯和半导体片上无源电磁场仿真套件成功通过三星8LPP工艺认证是其在EDA领域取得的一次重要里程碑。这一事件将推动国产EDA工具在全球市场的普及和应用,为芯片设计公司提供更加高效、可靠的仿真解决方案。


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