上海微电子已成功研制出28nm光刻机，这是国内唯一一家掌握光刻机技术的企业所取得的重大突破。光刻机是制造芯片的核心设备之一，其精度和稳定性对于芯片制造的质量和效率具有决定性的影响。28nm光刻机的研制成功，意味着中国芯片制造行业在核心技术方面取得了重要进展，也为中国芯片产业的自主发展提供了有力支撑。

光刻机是一种利用光学原理进行高精度微纳加工的设备，其核心技术包括光源、光学系统、精密机械等多个方面。28nm光刻机的研制成功，代表了上海微电子在这些核心技术方面都取得了重要突破，也标志着中国芯片制造行业在微纳加工领域的技术水平得到了显著提升。

这一成果的实现，不仅对于上海微电子和中国芯片产业具有重要意义，也对于整个半导体行业的发展具有推动作用。随着技术的不断进步和应用需求的不断提升，光刻机的精度和稳定性将不断提高，为芯片制造行业带来更多的机遇和挑战。同时，随着中国芯片产业的不断壮大和发展，相信未来会有更多的技术和产品走向世界舞台，为全球半导体行业的发展做出更大的贡献。

不过，需要注意的是，虽然28nm光刻机的研制成功是一个重要的里程碑，但中国芯片产业仍然面临着诸多挑战和困难。在核心技术方面，还需要不断加强研发和创新，提高自主创新能力；在市场方面，还需要进一步扩大市场份额，提高国际竞争力。因此，需要政府、企业和社会各界共同努力，推动中国芯片产业的持续发展和创新。

根据公开报道，上海微电子已经成功研制出28nm的光刻机，并且计划在未来交付给国内市场。这一成果标志着中国芯片制造行业在光刻机技术方面取得了重大突破，缩小了与国际先进水平的差距。

然而，值得注意的是，虽然上海微电子已经研制出28nm光刻机，但这并不意味着中国的光刻机技术已经完全达到国际领先水平。在技术成熟度和市场份额方面，国产光刻机仍然面临着一定的挑战。因此，需要继续加强技术研发和创新，提高自主创新能力，同时加强市场推广和应用，以进一步推动中国芯片产业的发展。

总之，上海微电子成功研制出28nm光刻机是一个重要的里程碑，标志着中国芯片制造行业在核心技术方面取得了重要进展。这将有助于推动中国芯片产业的自主发展和提升国际竞争力。

有多篇公开报道提及上海微电子成功研制出28nm光刻机。

• 新华网援引《证券日报》消息称，上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破，并预计在年底向市场交付国产第一台28nm光刻机设备。

• 张江集团官方账号“你好张江”也披露了上海微电子成功研制出28nm光刻机的消息，并肯定了中芯国际、华虹半导体等在先进模拟芯片代工方面不断注入的强劲能量。

这些报道均表明，上海微电子在国内光刻机技术方面取得了重要进展，并且这一成果对于推动中国芯片产业的自主发展和提升国际竞争力具有重要意义。不过，需要注意的是，虽然28nm光刻机的研制成功是一个重要的里程碑，但中国芯片产业仍然需要继续加强技术研发和创新，提高自主创新能力，以应对日益激烈的市场竞争。