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外光刻机
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光刻机（又称曝光机）是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。光刻机的作用是扫描曝光芯片晶圆，刻蚀集成电路。精度越高的光刻机，能生产出纳米尺寸更小，功能更强大的芯片。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。

美光科技将引入极紫外光刻机，2024 年部署到部分工艺节点
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2021-07-05
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