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计算光刻技术
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近年来,空间光调制器(SLM)无掩模光刻技术受到微电子及相关领域的广泛关注.SLM作为无掩模光学光刻系统的图形发生器,可便捷,灵活,并行,低成本和高速地产生曝光图形,在小批量高精度掩模制作和微光学器件生产中发挥了重要作用,在高分辨集成电路制作上也表现出极其诱人的应用前景

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