原标题：经 UMC 认证的设计流量加速模拟/混合信号设计

　　Cadence 模拟/混合信号 (AMS) IC 设计流程现已通过 UMC 的 22 纳米超低功耗和超低泄漏工艺技术认证。该流程优化了工艺效率并缩短了设计周期，加速了 5G、物联网、显示器和其他高级 IC 设计的开发。

　　经 UMC 认证的 Cadence AMS 流程提供统一的可靠性接口 (URI)，使客户能够在设计 UMC 的22ULP/ULL 工艺时更好地监控电路的可靠性和使用寿命。AMS 流程还包括一个实际演示电路，可在设计期间应用以提高效率和精度。

　　Cadence AMS 设计流程包括以下由 UMC 22-nm 工艺设计套件支持的集成解决方案和方法：

　　Virtuoso 设计平台，包括原理图编辑、模拟设计环境 (ADE) 和布局 XL 工具支持

　　Spectre AMS Designer结合了 Spectre X 仿真器和 Xcelium 逻辑仿真引擎，用于包含晶体管、行为、时序和寄生块表示的设计。

　　用于电迁移和 IR 压降 (EM-IR) 分析的Voltus-Fi定制电源完整性解决方案

　　“Cadence AMS 流程经过优化，可用于 UMC 的 22ULP/ULL 工艺技术，为客户提供涵盖设计、验证和实施的全面解决方案，”Cadence 定制 IC 和 PCB 集团产品管理副总裁 Ashutosh Mauskar 说。“通过与 UMC 合作，我们使共同客户能够在 22ULP/ULL 上快速实现创新的混合信号设计。”