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ASML将赴韩国建EUV设备再制厂及培训中心,预计2025年建成

来源: 中电网
2021-05-18
类别:业界动态
eye 23
文章创建人 拍明

原标题:ASML将赴韩国建EUV设备再制厂及培训中心,预计2025年建成

  据韩国经济日报报导,5月13日韩国产业通商资源部(The Ministry of Trade, Industry and Energy,MOTIE)对外宣布,全球光刻机龙头大厂艾司摩尔(ASML)计划赴韩国打造EUV 再制造(remanufacturing)厂及培训中心。

  据介绍,ASML未来4年将在韩国投资2,400亿韩元(2.1亿美元),于京畿道华城市打造一座EUV光刻设备再制造厂以及一家培训中心。所谓再制造,是指通过必要的拆卸、检修和零部件更换等,将废旧产品恢复如新的过程。

  想要打造先进制程的半导体生产线,一定要设法取得关键半导体设备。应用材料、ASML、泛林半导体、东京电子是全球前四大半导体设备厂商,总体的市占率高达60%左右。问题是,这些半导体设备厂每年只能生产一定数量的机台,交货时间也比较长。

  特别是对于7nm以下先进制程所必须的EUV光刻机来说,目前ASML是全球唯一一家能够生产EUV光刻机的半导体设备供应商。但是目前ASML的EUV光刻机产能十分有限,一年只能生产30台左右EUV光刻机。据韩国媒体报道称,目前台积电已取得了50台EUV设备,而三星仅有10台。

  此次ASML计划在韩国新建的EUV再制厂,主要用途就是为韩国当地运行的EUV光刻机维护、升级提供助力。

  据了解,韩国MOTIE及京畿道政府将针对ASML的授权、扩张当地业务事宜提供协助。而上述设施预计2025年底前落成,未来将在韩国聘用超过300名专业人才。

  另外值得一提的是,报道还指出,目前美国半导体设备大厂泛林半导体(Lam Research Corp.)将扩大对韩国的投资南。报道引述业界消息指出,泛林半导体已将韩国的生产目标提高一倍,正在寻找合适的地点建立新厂,以便扩充产能。



责任编辑:David

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